RF-CMOS 性能趋势 | 描述 |
缩小技术节点 | RF-CMOS 电路中的器件速度更高,线性度更高,功耗更低。 |
增强的设备建模 | 精确的器件建模技术可捕获 RF-CMOS 器件在高频下的行为,同时考虑非线性效应、寄生元件和工艺变化。 |
射频前端集成 | RF 前端模块 (RF FEM) 与 CMOS 技术的集成可实现更小的组件 |
晶体管体偏置 | 调整 n-MOS 晶体管的阈值电压 (VT),从而降低偏置电压,同时保持增益、线性度和噪声方面的特性。 |
翻转井 LVT 晶体管 | 翻转阱低 VT (LVT) 晶体管允许通过体电压调整 VT。它们具有较高的体增益系数,非常适合低压 CMOS 集成电路。 |
射频电路拓扑 | 纳米 CMOS 中的几何缩放可实现高性能,但代价是降低晶体管击穿电压和最大电源电压。新的 RF-CMOS 性能趋势通过创新的电路拓扑解决了较低电压运行问题。 |